TFX4000E/TFX4000E UT+

新一代的薄膜厚度測量設備,應用范圍覆蓋集成電路制造前后段,適用于代工、存儲以及3D NAND等各個領域,為客戶提供全產線的工藝支持。

TFX4000系列產品繼承了公司二代產品TFX3000P的全部優越性能,可滿足14nm及以下工藝要求。在功能上更加豐富、完善,應用上更加廣泛。

搭載了SWE功能,可實現針對如Gate Oxide等超薄膜更精確快速的測量。


設備主要特點:

·? ?低持有成本(CoO)、穩定性更好,產能更高

·? ?功能更全面:增加了四個測量模塊,擁有更寬的光譜范圍和更多的測量手段

·? ??性能更優越:更先進的光路系統設計和平臺運動系統,提供更穩定的測量性能和更高的產能,全面滿足最先進的工藝需求